Samsung introduceert een hoge NA EUV om het concurrentievermogen op de 2NM -markt te stimuleren

Samsung Electronics heeft naar verluidt de volgende generatie halfgeleider-lithografie-apparatuur geïntroduceerd, High Numerical Aperture (NA) Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiemachine (High NA EUV)-Exe: 5000-in zijn Hwaseong-faciliteit in Zuid-Korea begin maart.Hoge NA EUV is essentieel voor de productie van ultrafijncircuits onder 2nm, wat de inspanningen van Samsung aangeeft om zijn sub-2 NM-procestechnologie te verbeteren.

Het rapport benadrukt dat deze geavanceerde apparatuur wordt geleverd met een flink prijskaartje van 500 miljard KRW (ongeveer 2,501 miljard RMB) en wordt uitsluitend geleverd door ASML, waardoor het een van de meest gewilde tools in de halfgeleiderindustrie is.

Sinds vorig jaar evalueert Samsung de toepassing van hoge NA EUV in zijn productieproces en is naar verluidt van plan het te gebruiken voor zijn volgende generatie halfgeleiderknooppunten onder 2 nm.

Hoge NA EUV wordt beschouwd als een cruciale enabler voor geavanceerde sub-2NM foundredrocessen.Toonaangevende halfgeleiderbedrijven wereldwijd racen om deze geavanceerde technologie aan te nemen.Intel heeft al een contract getekend om zes van deze machines te kopen, met de eerste geleverd in 2023. Ondertussen heeft TSMC de apparatuur onlangs in zijn productielijn geïntroduceerd om de acceptatie van zijn 2nm -procestechnologie te versnellen.

Volgens Trendforce bereikte het wereldwijde marktaandeel van TSMC in Q4 2023 67,1%, een stijging van 2,4 procentpunten ten opzichte van Q3 2023. Samsung heeft daarentegen in de markt geworsteld, waarbij het aandeel 1 procentpunt daalde van 9,1% tot 8,1% in dezelfde periode.